catalytic chemical vapor deposition

基本解释

• [机械工程]催化化学气相沉积

英汉例句

双语例句

• Polysilicon thin films are deposited by catalytic chemical vapor deposition method. The substrate temperature is 300 ℃ and catalytic hot wire is tungsten filament.
  以金属钨为催化热丝，采用热丝催化化学气相沉积，在300℃的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。

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词组短语

短语

• catalytic chemical vapor deposition method 催化化学蒸汽沉积法
• Floating Catalytic Chemical Vapor Deposition 浮游催化化学气相沉积
• catalytic chemical vapor deposition technique 催化化学气相沉积法
• catalytic chemical vapor deposition cat -cvd 催化化学气相沉积
• Chemical Vapor catalytic Deposition 化学气相催化裂解法

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专业释义

机械工程

• 催化化学气相沉积